米氏粒子在聚焦贝塞尔高斯光场中的受力分析文献综述

米氏散射理论是光学领域的重要基础理论，其描述了光与物质相互作用的规律。

近年来，随着激光技术的快速发展，贝塞尔光束因其无衍射、自修复等特性，在光操控领域展现出巨大的应用潜力。

将聚焦贝塞尔高斯光束用于操控微粒，为实现对微粒的精确操控提供了新的思路。

本文首先介绍了米氏散射理论、贝塞尔高斯光束、光场中粒子受力等相关概念，并回顾了贝塞尔光束、光操控技术以及米氏粒子在光场中受力研究的历史和现状；然后，重点阐述了计算米氏粒子在聚焦贝塞尔高斯光场中受力的主要理论方法，包括麦克斯韦应力张量法、米氏散射理论以及偶极近似方法等；接着，对近年来国内外学者在聚焦贝塞尔高斯光束操控米氏粒子的研究成果进行了综述和评价，分析了光束参数、粒子尺寸等因素对粒子受力和运动轨迹的影响；最后，对该研究方向的未来发展趋势进行了展望。

关键词：米氏散射；贝塞尔高斯光束；光操控；光力；数值模拟

光操控技术是指利用光场与微粒之间的相互作用力，实现对微粒的空间捕获、移动、旋转等操控。

这项技术在生命科学、材料科学、物理化学等领域具有重要的应用价值，例如：细胞捕获与操控、微纳加工、光学微流控等[1-3]。

米氏散射理论是描述光与物质相互作用的基本理论之一，其解释了光在均匀介质球形粒子上的散射现象[4]。

当粒子的尺寸与入射光波长相当时，就会发生米氏散射。

米氏散射理论可以用于计算光散射的强度、方向以及偏振状态等，为理解和应用光操控技术提供了理论基础。