毫米波倍频器设计文献综述

 2022-09-22 11:50:44

文献综述(或调研报告):

倍频器国外发展现状:

2014年,美国加州大学的Hsin-Chang Lin,Gabriel M.Rebeiz等人设计了一款基于45nm CMOS工艺的二倍频器,输出信号频率在135~160GHz之间[1]。该二倍频器的结构如图1所示,它由一个偏置在丙类模式下的差分放大器,一个栅端基波反射器和输入输出匹配网络组成,输入输出匹配采用微带线进行匹配,输入端采用巴伦将单端信号转换成差分信号。二倍频器在输入信号功率为7dBm时,倍频损耗为4.5dB,直流功耗为25mW,基波抑制大于20dBc,输出信号功率为3.5dBm,芯片面积为0.44mm2

图1 二倍频器结构图

2016年,提出一种138-170 GHz有源倍频器,该倍频器以0.13 m SiGeBi CMOS技术实现,峰 值输出功率为5.6 dBm,峰值功率增加效率为7.6 %。倍频器实现了4.9 dB的峰值转换增益,通过使用 针对低驱动功率优化的推挽倍频级以及低功率输出缓冲器,在峰值驱动时仅消耗36 mW的DC功率。据 我们所知,该倍频器迄今为止在所有D波段和G波段SiGe HBT倍频器中实现了最高的输出功率、效率 和基频抑制[2]。

2016年,提出了一种65 nm CMOS中的W波段注入锁定倍频器。通过使用耦合谐振器,以3.4-4.1-dBm注入功率实现了69.2-94.6-GHz锁定范围。二阶谐波电流从谐振器顶部注入,这避免了源退化 问题。在100 kHz偏移下,从注入信号的相位噪声测量值来看,相位噪声测量值仅为6.2 dB,接近理论 计算值。倍频器占据0.16 mm的芯片面积,包括缓冲器,并从1.0 V电源(不包括缓冲器)中汲取9.7-11.4 mA电流[3]。

2017年,东京工业大学Abdo Ibrahim等人基于65nm的CMOS技术,分别采用良好的共源拓扑结构,实现低功耗、饱和输出功率高达5.5dBm,在8dBm驱动功率时超过60dBc的基波抑制的100-123GHz频段内的二倍频器设计[4]。该倍频器设计利用了CMOS管的非线性特性摒弃常用的肖特基二极管,设计方案更加灵活,选择在栅极和漏极之间增加反馈,更依赖于CMOS制造工艺的精密性。

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