1. 研究目的与意义
固态热电(te)冷却器由于其高可靠性,低噪音运行,小型化和高功率密度优点的引起许多应用领域的兴趣 。
商业热电制冷设备使用掺杂的bi2te3作为半导体材料,由于其高的优值系数(zt?1)得到重视。
对于te冷却器,以满足该行业在高冷却功率密度方面的需求,需要设备的尺寸可以缩小。
2. 研究内容和预期目标
界面欧姆接触的接触电阻不仅取决于接触的金属,也与界面反应关联。
此外,由于bi2te3基有一个~0.16 ev的小带隙,理论上讲,有可能与化学镀镍实现低得多的接触电阻。
本课题主要研究bi2te3/ni/cu界面形貌和电学特性。
3. 研究的方法与步骤
掌握MS-PVD薄膜沉积技术,分析不同组分薄膜材料的晶格特征,设计合理的薄膜沉积工艺,通过SEM电镜表征界面结构,研究碲化铋和镍之间的扩散机制和反应特征,通过高温退火和冷热冲击探讨界面形态的变化特征和相关机制。
4. 参考文献
1、y. mishin ,*, m. asta , ju li,acta materialia 58 (2010) 1117–1151;
2、ka xiong1, weichao wang1, husam n alshareef1,2, rahul p gupta1, john b white3, bruce e gnade1 and kyeongjae cho,j. phys. d: appl. phys. 43 (2010) 115303 (8pp);
3、snyder g j and toberer e s 2008 nature mater. 7 105;
5. 计划与进度安排
1、2022年3月1日-3月13日, 提交开题报告等材料(开题报告、外文翻译等),
2、2022年3月14日-5月20日,按开题报告撰写论文;
3、2022年4月18日-4月29日,中期检查,汇报课题进展情况,回答教师提问;
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