1. 研究目的与意义
背景：
聚焦离子束技术（focused ion beam，fib）是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面，实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的核心部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束技术（fib）利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（sem）,透射电子显微镜（tem）等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目前已广泛应用于半导体集成电路修改、离子注入、切割和故障分析等。
目的：
2. 研究内容和预期目标
| 2．主要研究内容和预期目标 主要研究内容： （1） 展示FIB制样的样品表征，了解FIB与TEM，SEM等之间的配合使用关系以及之间的使用方法。 （2） 了解FIB的工作原理，该技术在各方面的使用方式及用途及其优点和缺点。 （3） 明确FIB技术制样的具体操作步骤，使用FIB技术进行制样。
预期目标： 首先利用文献和资料，了解FIB的工作原理以及使用方法。配合SEM，TEM等使用FIB技术对样品进行制备，并在最后呈现较好的表征结果。
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3. 研究的方法与步骤
| 3．拟采用的研究方法、步骤 （1）对FIB技术以及在制备过程中需要使用的SEM,TEM等技术用途原理等进行综述； （2）具体了解FIB的工作原理，并明确该技术的优点以及局限性； （3）明确FIB的具体操作步骤，并且制备样品； （4）对样品的形貌，以及使用中出现的问题进行总结。 |
4. 参考文献
4.文献参考资料
[1] r. m. langford, y. z. huang, s.lozano-perez, et al. “preparation of site specific transmission electronmicroscopy plan-view specimens using a focused ion beam system”[j], journal ofvacuum science and technologyb,19, 755-758, (2001).
[2] m.k. miller, k.f. russell, “atom probe specimenpreparation with a dual beam sem/fib miller”[j], ultramicroscopy, 107, 761-766,(2007).
5. 计划与进度安排
5．具体进度安排
工作进度安排：
2022年3月1日-3月5日 下发毕业论文任务书
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