1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）
一、研究背景随着微电子、航天、通信工程，机械制造等科学领域的发展与提高，有的热辐射控制技术已不能满足应用要求，甚至成为制约技术发展和应用的瓶颈，因此，需要不断探索和研究新型热福射控制技术[1]。
经典辐射换热理论往往用于宏观尺度，而微观角度，空间的尺寸已经到达纳米级，和热辐射电磁波波长的数量级相当，除了材料本身会影响热辐射，微结构的形式也与其相关，此时就需要考虑电磁波动的相干性，物体的电学，光学，热力学的性质会产生变化。
一些自然界不存在的优异性质，比如超材料的光学隐身，拓扑绝缘体等由此出现[2]。
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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
本课题拟采用fdtd solutions数值模拟软件，建立光栅结构数学模型，划分网格，设置合理的边界条件对其进行求解，研究热辐射调控的变化。
通过吸收率的变化得到光栅材料、尺寸参数因素等对热辐射影响的一般性规律，对不同光栅结构的热辐射特性进行分析比较，实现可见光和近红外区域高吸收率的光学器件。
首先使用纯硅一维简单光栅，fdtd算法选取的离散网格大小为10nm，确定光栅结构的结构尺寸周期、槽深度，画出吸收率随填充比变化的曲线。
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