三维动态曝光过程关键技术与应用研究开题报告

全文总字数：4824字

1. 研究目的与意义（文献综述）

1）研究目的：

曝光机属于电子元器件的制作设备，使用光刻的方法完成电子设备基板制造中的曝光过程。现有曝光机的工作原理是将预先制作好的掩模板上的图案通过平行光或者散射光光照的方式映刻到涂有感光材料的基板上。光刻的原理是基板上涂有的光刻胶是一种光敏材料，其有正负之分，正胶被光照后易被一种刻蚀液刻蚀，反胶则是不易被另外一种刻蚀液刻蚀。利用这种溶解度上的差异，在掩膜版上预先设计好图案。覆盖在整个基板上，再通过一定时间的光照，经由刻蚀液的刻蚀，在基板上得到掩膜版上得到需要的图形。

掩模板是曝光过程中极其重要的一种中间转移装备。掩模板的制作耗费时间长，费用昂贵，且一种掩模版只能针对一种基板使用，一旦制作完成便无法修改，生产柔性非常低。随着现代科学技术的飞速发展。普通的掩模板已经无法满足当下市场快速响应的需求。dmd芯片应运而生。dmd芯片来源于mems（micro electro mechanical systems 微电子机械系统）技术。其原理是在其芯片表面集成了数十万乃至百万个微反射镜，微反射镜是dmd芯片的物理像素，微反射镜越多，dmd芯片所能显示的分辨率越高。通过操控每个反射镜的转动来实现所需要的光图形。只需要一个dmd芯片就可以得到所需要的各种形式的曝光图案。将这种芯片用于曝光机。无需加工不同结构的掩膜版，极大的降低了生产成本，提高了机器生产柔性。

2. 研究的基本内容与方案

1.研究基本内容

（1）曝光机整体结构的设计

结合目前国内外现有曝光机结构，结合曝光机需要使用的气浮技术，以及双面曝光技术，以机械设计，机械原理为理论基础设计出适合该曝光机使用的底座以及机架结构。

3. 研究计划与安排

2020年3月 完成

曝光机卷对卷机构的路径分析设计，曝光部分进行应力分析，曝光部分的平行度分析，结合实际场景，根据实验产品，对路径进行优化，应力进行调整，以达到最佳曝光效果。

2020年4月 完成

4. 参考文献（12篇以上）

【1】 a flow-difference feedbackiteration method and its application to high-speed aerostatic journal bearings

【2】 modeling for optimization ofcircular flat pad aerostatic bearing with asingle central orifice-typerestrictor based on cfd simulation

【3】precision machine tool x–ystage utilizing a planar air bearing arrangement