纳米氧化锡的制备及其抗菌性能研究开题报告

1. 研究目的与意义

研究的背景：

氧化锡是一种典型的 n 型半导体材料，其 Eg=3.5 e V(300 K)，氧化锡是一种宽带系半导体材料,带宽范围为3.6～ 4.0eV。它用途广泛,在有机合成中,可用作催化剂;在陶瓷工业中,可作为釉料和搪瓷乳浊剂。纳米氧化锡由于具有比表面积大、活性高、熔点低、导热性好等特点,目前被广泛地应用于气敏材料、电极材料及太阳能电池等领域。由于小尺寸效应及表面效应,纳米氧化锡具有特殊的光电性能和气敏性能,在气敏元件、半导体元件、电极材料及太阳能电池等方面有着潜在的应用.

研究目的及意义：

制备出纳米氧化锡抗菌材料和进行抗菌实验研究，得出纳米氧化锡抗菌材料制备与性能规律性的初步结论。

2. 研究内容和预期目标

预期目标：

初步决定通过水热法、溶胶-凝胶法、微乳热法来制备纳米氧化锡，采用 x 射线衍射衍射法对其进行表征。用大肠杆菌和金黄色葡萄球菌来检验其抗菌性。

研究内容：

3. 研究的方法与步骤

水热法：

以硝酸锡为原料,溶解于蒸馏水中,配成0.2mol/l的溶液。转移至容量为100 ml的带聚四氟乙烯内衬的水热釜中，密封，于120～ 200℃保温10 h。将所得产物取出,用蒸馏水洗涤两次,再用无水乙醇洗涤两次，100℃烘干。

溶胶-凝胶法：

4. 参考文献

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5. 计划与进度安排

1. 2022年11月22日－2022年3月10日：接受毕业论文任务书，查阅参考文献，完成开题报告。

2. 2022年3月10日－3月25日：制定实验方案，做好实验所需仪器设备和化学试剂等各项准备工作, 进入实验室。

3. 2022年3月25日－4月29日：实验室进行实验，完成实验量的50％左右，接受中期检查。