光敏性聚酰亚胺胶工艺在半导体激光器中的应用研究开题报告

1. 研究目的与意义

1.1 研究背景

自1977年，日本东京工业大学的伊贺健一提出vcsel的概念开始，vcsel各个方面的研究到现在均获得了长足的进展。vcsel的光学谐振腔与半导体芯片的衬底垂直，能够实现芯片表面的激光发射，有阈值电流低、稳定单波长工作、易高频调制、易二维集成、无腔面阈值损伤、动态单模工作、圆形对称光斑和光纤耦合效率高等优点。

2. 研究内容和预期目标

2.1研究内容

（1）光敏性聚酰亚胺胶光刻显影工艺开发

3. 研究的方法与步骤

3.1研究方法

（1）查阅相关资料，了解光敏性聚酰亚胺胶的功能特性，了解国内外半导体激光器发展现状及其中钝化层的制作，从中总结出光敏性聚酰亚胺胶光刻工艺存在的问题。

（2）通过具体实验来对比各种参数下的结果，并进行问题分析，给出解决方案。

4. 参考文献

[1]宁文果,李珩,朱春生,罗乐,陈栋,段珍珍.the effects of cure temperature history on the stability of polyimide films[j].journal of semiconductors,2013,34(06):27-31.

[2] chiu c y, lee y c. fabrication of polyimide micro/nano-structures based on contact-transfer and mask-embedded lithography[j]. journal of micromechanics microengineering, 2009, 19(10):105001.

[3]stephan gronenborn,michael miller,gero heusler,holger m?nch. optical components and optical systems for vcsel diode laser systems[j]. advanced optical technologies,2012,1(5).

5. 计划与进度安排

2.18--3.15课题调研，了解相关技术和要求；

3.16--3.29查阅资料，撰写并提交开题报告；

3.30--5.3 实验分析，数据整理，完成论文初稿；