1. 研究目的与意义
1.1 研究背景
随着世界半导体行业巨头纷纷到国内投资,整个半导体行业快速发展,半导体材料是半导体工业的基础,这就要求材料业也要跟上半导体行业发展的步伐,半导体材料迎来其前所未有的发展机遇。半导体材料是信息技术和产品发展的“粮食”,它的发展对半导体技术的发展有极大的影响,对信息产业的发展速度起着举足轻重的作用。
迄今为止,半导体材料一共发展了有四代。第一代半导体材料代表为硅和锗,第二代半导体材料代表为砷化镓和磷化铟,宽禁带(禁带宽度Eg2.2eV)第三代半导体材料代表为耐高温化合物(碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石、氮化铝(AlN)等)以及第四代半导体材料代表为氧化镓()和锑化物等。与第一、二代半导体材料相比,第三代半导体材料的优势在于有更宽的禁带宽度、更高的击穿电场、更高的热导率、更高的电子饱和速率以及更高的抗辐射能力等,所以它更适用于制作高温、高频、抗辐射及大功率器件。
第三代半导体材料拥有广阔的应用前景,它能被用于半导体照明、高速轨道交通、智能电网、新一代移动通信、新能源汽车等领域,支撑起信息、交通等产业的发展。
目前来说第三代半导体材料优势巨大,应用前景大好,全球各国也在大力发展,但我国在宽禁带半导体产业化这一领域上发展还比较缓慢,更需加紧突破有关技术。
表 1-1 不同半导体材料的物理参数
物理参数
| GaN
| GaAs
| Si
|
禁带宽度
| 3.45 | 1.42 | 1.12 |
相对介电常数
| 8.9 | 13.1 | 11.4 |
电子迁移率
| 1000
| 8500 | 1400 |
击穿场强
| 3.3 | 0.4 | 0.3 |
电子饱和速度
| 2.7 | 2.0 | 1.0 |
热导率
| 2.0 | 0.5 | 1.5 |
氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)优势巨大,被广泛应用于5G通信(5G通讯的射频前端有着高频和高效率的严格要求,这正是氮化镓的用武之地。),光电子器件(利用GaN半导体材料宽禁带、激发蓝光的独特性质开发新的光电应用产品例如高亮度 LED、蓝光激光器)和功率电子器件等方面。
1.2 研究目的
GaN HEMT在军事上应用在雷达方面(主要有地面,空中以及船载)、精密制导和高性能空间电子设备;在商业上应用在卫星频段、数字无线电、频段非常小的波形终端、基站发射机以及宽带卫星等方面上。
但是因为GaNHEMT器件的性能优化还有很大的提升空间,所以该款器件未得到广泛的应用。随着器件尺寸的微缩,GaN HEMT器件的势垒厚度也需要等比例的减小以提高栅极对沟道的控制效果,而势垒厚度对器件的电学特性有很大的影响。本课题主要研究势垒厚度对GaN高电子迁移率晶体管电学特性的影响,并根据研究结论优化GaN HEMT器件的势垒层设计方案。主要研究内容包括不同的势垒层厚度对器件的饱和电子浓度、跨导、阈值电压等特性的影响,并在栅下势垒层设计不同的厚度拼在一起验证优化方案。在上述基础上,得出势垒层厚度影响器件特性的规律,并提出关于GaN HEMT器件势垒层设计的相关科学建议和结论。
1.3 研究意义
GaN基材料的优良物理特性如高电子饱和速度,高击穿场强,以及良好的导热性等使得GaN材料成为目前全球半导体研究的前沿和热点,也是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料。GaN HEMT具有如此多的优越性以及微波领域广阔的应用前景,而且已经有了实际生产出来的甚至已经商用的器件。但相对于硅工艺的成熟度而言还有很大的距离和局限性,还需不断的研究下去。对GaN HEMT器件势垒层厚度的优化设计,提高了器件的跨导等的性能,使得器件的栅极能在一个较宽的电压范围内工作,并且它的放大倍数也不低。
2. 研究内容和预期目标
2.1 研究内容
(1)了解gan hemt器件
充分了解gan hemt器件研究背景、发展方向和工作原理。重点关注:器件具体的结构、器件的输出特性、转移特性、cv特性、器件沟道中的二维电子气形成原理、电流崩塌现象等。
3. 研究的方法与步骤
3.1 研究方法
(1)初期调研:查阅相关资料和文献,了解国内外gan hemt器件的发展现状,从中整理和总结出实现对器件势垒层优化设计的方法,为本课题研究做好充分准备。
(2)软件仿真:通过学习silvaco软件,改变势垒层的厚度并进行仿真。
4. 参考文献
[1]陈兴.薄势垒algan/gan异质结与增强型hemt器件研究[d].陕西:西安电子科技大学,2014. doi:10.7666/d.d549174.
[2]程知群,靳立伟,冯志红.毫米波algan/ganhemt交流特性研究[j].微波学报,2012,28(6):12-15.
[3]申艳芬,林兆军,李惠军, 等.algan/gan hemt势垒层厚度影响的模拟及优化[j].微纳电子技术,2011,48(3):150-154,193. doi:10.3969/j.issn.1671-4776.2011.03.003.
5. 计划与进度安排
(1)2022.2.25-2022.3.15 查阅资料完成文献调研报告,完成开题报告的书写,完成外文资料的翻译;
(2)2022.3.16-2022.4.15 学习如何利用silvaco仿真软件仿真并导出数据进行作图,完成器件势垒层不同厚度仿真,实验测试器件电学参数验证仿真结果;
(3)2022.4.16-2022.4.30 总结并整理实验数据,进行优化实验,分析势垒层厚度的改变对不同参数如:饱和漏电流、跨导等的影响,提出合理的优化方案并形成科学结论;
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