基于器件电学特性调控的GaN HEMT器件势垒厚度的设计开题报告

 2022-04-04 21:56:35

1. 研究目的与意义

1.1 研究背景

随着世界半导体行业巨头纷纷到国内投资,整个半导体行业快速发展,半导体材料是半导体工业的基础,这就要求材料业也要跟上半导体行业发展的步伐,半导体材料迎来其前所未有的发展机遇。半导体材料是信息技术和产品发展的“粮食”,它的发展对半导体技术的发展有极大的影响,对信息产业的发展速度起着举足轻重的作用。

迄今为止,半导体材料一共发展了有四代。第一代半导体材料代表为硅和锗,第二代半导体材料代表为砷化镓和磷化铟,宽禁带(禁带宽度Eg2.2eV)第三代半导体材料代表为耐高温化合物(碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石、氮化铝(AlN)等)以及第四代半导体材料代表为氧化镓()和锑化物等。与第一、二代半导体材料相比,第三代半导体材料的优势在于有更宽的禁带宽度、更高的击穿电场、更高的热导率、更高的电子饱和速率以及更高的抗辐射能力等,所以它更适用于制作高温、高频、抗辐射及大功率器件。

第三代半导体材料拥有广阔的应用前景,它能被用于半导体照明、高速轨道交通、智能电网、新一代移动通信、新能源汽车等领域,支撑起信息、交通等产业的发展。

目前来说第三代半导体材料优势巨大,应用前景大好,全球各国也在大力发展,但我国在宽禁带半导体产业化这一领域上发展还比较缓慢,更需加紧突破有关技术。

表 1-1 不同半导体材料的物理参数

物理参数

GaN

GaAs

Si

禁带宽度

3.45

1.42

1.12

相对介电常数

8.9

13.1

11.4

电子迁移率

1000

8500

1400

击穿场强

3.3

0.4

0.3

电子饱和速度

2.7

2.0

1.0

热导率

2.0

0.5

1.5

氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)优势巨大,被广泛应用于5G通信(5G通讯的射频前端有着高频和高效率的严格要求,这正是氮化镓的用武之地。),光电子器件(利用GaN半导体材料宽禁带、激发蓝光的独特性质开发新的光电应用产品例如高亮度 LED、蓝光激光器)和功率电子器件等方面。

1.2 研究目的

GaN HEMT在军事上应用在雷达方面(主要有地面,空中以及船载)、精密制导和高性能空间电子设备;在商业上应用在卫星频段、数字无线电、频段非常小的波形终端、基站发射机以及宽带卫星等方面上。

但是因为GaNHEMT器件的性能优化还有很大的提升空间,所以该款器件未得到广泛的应用。随着器件尺寸的微缩,GaN HEMT器件的势垒厚度也需要等比例的减小以提高栅极对沟道的控制效果,而势垒厚度对器件的电学特性有很大的影响。本课题主要研究势垒厚度对GaN高电子迁移率晶体管电学特性的影响,并根据研究结论优化GaN HEMT器件的势垒层设计方案。主要研究内容包括不同的势垒层厚度对器件的饱和电子浓度、跨导、阈值电压等特性的影响,并在栅下势垒层设计不同的厚度拼在一起验证优化方案。在上述基础上,得出势垒层厚度影响器件特性的规律,并提出关于GaN HEMT器件势垒层设计的相关科学建议和结论。

1.3 研究意义

GaN基材料的优良物理特性如高电子饱和速度,高击穿场强,以及良好的导热性等使得GaN材料成为目前全球半导体研究的前沿和热点,也是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料。GaN HEMT具有如此多的优越性以及微波领域广阔的应用前景,而且已经有了实际生产出来的甚至已经商用的器件。但相对于硅工艺的成熟度而言还有很大的距离和局限性,还需不断的研究下去。对GaN HEMT器件势垒层厚度的优化设计,提高了器件的跨导等的性能,使得器件的栅极能在一个较宽的电压范围内工作,并且它的放大倍数也不低。

2. 研究内容和预期目标

2.1 研究内容

(1)了解gan hemt器件

充分了解gan hemt器件研究背景、发展方向和工作原理。重点关注:器件具体的结构、器件的输出特性、转移特性、cv特性、器件沟道中的二维电子气形成原理、电流崩塌现象等。

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3. 研究的方法与步骤

3.1 研究方法

(1)初期调研:查阅相关资料和文献,了解国内外gan hemt器件的发展现状,从中整理和总结出实现对器件势垒层优化设计的方法,为本课题研究做好充分准备。

(2)软件仿真:通过学习silvaco软件,改变势垒层的厚度并进行仿真。

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4. 参考文献

[1]陈兴.薄势垒algan/gan异质结与增强型hemt器件研究[d].陕西:西安电子科技大学,2014. doi:10.7666/d.d549174.

[2]程知群,靳立伟,冯志红.毫米波algan/ganhemt交流特性研究[j].微波学报,2012,28(6):12-15.

[3]申艳芬,林兆军,李惠军, 等.algan/gan hemt势垒层厚度影响的模拟及优化[j].微纳电子技术,2011,48(3):150-154,193. doi:10.3969/j.issn.1671-4776.2011.03.003.

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5. 计划与进度安排

(1)2022.2.25-2022.3.15 查阅资料完成文献调研报告,完成开题报告的书写,完成外文资料的翻译;

(2)2022.3.16-2022.4.15 学习如何利用silvaco仿真软件仿真并导出数据进行作图,完成器件势垒层不同厚度仿真,实验测试器件电学参数验证仿真结果;

(3)2022.4.16-2022.4.30 总结并整理实验数据,进行优化实验,分析势垒层厚度的改变对不同参数如:饱和漏电流、跨导等的影响,提出合理的优化方案并形成科学结论;

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