1. 研究目的与意义
近十几年来,随着半导体技术的快速发展,传统的si和gaas等基的器件性能已经接近极限,不能满足半导体的应用需要。
由于材料上以及电学属性上的优势,新型的三代半导体宽禁带材料gan、algan和sic等基的微波器件能够突破其上限极限,达到常规半导体难以达到的性能指标。
由于这个原因,目前三代半导体gan材料的algan/gan hemts由于其优越的研究前景而成为目前的热点研究对象。
2. 研究内容和预期目标
一.研究内容 1、 了解HEMT基本结构及工作原理; 2、 了解GaN材料的特殊性以及二维电子气的概念; 3、 了解HEMT器件生长的一般工艺步骤; 4、 进行仿真分析。
二.预期目标 1. 掌握HEMT器件类别与基本特性; 2. 熟练每个过程中的算法基本原理; 3. 通过学习和掌握HEMT器件算法的运用; 4. 提交本科毕业论文一篇。
3. 研究的方法与步骤
本设计选用的gan hemt器件在大功率领域显示出其它材料、结构的器件无法比拟的优势,如大功率以及高效率等。
对器件本身的研究有助于理解其优点。
本设计重点要求掌握高电子迁移率晶体管的结构特点,并能借助于软件实现器件的设计与仿真。
4. 参考文献
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5. 计划与进度安排
(1)2022.1.19-2022.3.10 查阅资料,完成开题报告,完成外文资料的翻译; (2)2022.3.11-2022.3.20了解HEMT的基本结构与工作原理,准备课题研究软件仿真设计; (3)2022.3.21-2022.4.20 借助于EDA软件实现HEMT器件的仿真设计与调试; (4)2022.4.21-2022.5.20 调整并完善仿真设计,资料收集,撰写论文提纲; (5)2022.5.21-2022.6.1 总结资料并撰写论文; (6)2022.6.2-2022.6.10 论文修改,答辩。
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