溅射气体流量对Al膜形貌及电输运性质的影响开题报告

1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文献综述

随着社会现代化的高速发展，各种电子产品走入人们的生活，如电视、手机、平板、互联网等。所有这些技术的实现，其中都包含了数量庞大的电子元器件、集成电路等，而薄膜是这些器件和电路的基础。随着真空系统和各种分析表征技术的不断进步，以及其他工艺的发展，薄膜产业得到了迅猛的发展，薄膜的应用己经扩大到各个领域，作为特殊形态材料的薄膜，己成为微电子、信息、传感器、光学、太阳能等利用多种技术的基础，并广泛渗透到当代科技的各个领域，如塑料金属化制品、建筑玻璃镀膜制品、光学薄膜、集成电路薄膜、液晶显示器、刀具硬化膜、光盘、磁盘等等，都有了很大的生产规模。薄膜的应用不仅使得元器件朝微型化发展，而且在一定程度上提高了器件的性能。[1]

薄膜材料中，铝金属具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性、吸音性及耐核辐射性等优良性质,并且具有良好的光电性能等优良性质。其优异的光学性质和电学性质,使得铝薄膜在半导体掩膜、磁盘、宇宙空间用光学镜片、环形激光陀螺等纳米器件上的应用越来越广。薄膜的制备工艺很大程度上会影响到薄膜的性能。[2]

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

本课题利用离子溅射技术镀铝膜，主要研究溅射气体流量和衬底温度对铝膜表面形貌及电输运性质的影响。拟采用的研究途径包括：

1.利用等离子溅射技术在绝缘衬底上沉积al薄膜，以空气为溅射气体，通过调节气体流量，溅射不同的al薄膜。

2.改变衬底温度，研究温度对al膜结晶质量的改善效果。