含W多层高熵合金薄膜的扩散阻挡行为开题报告-开题报告网

1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

1、研究背景高熵合金又称多主元合金，由5种以上金属元素或非金属元素进行等摩尔配比制备。

由于具有高硬度、高塑性、高加工硬化、超强耐磨性、耐高温软化、耐腐蚀和耐高温氧化等优异的力学性能、化学性能叫以及物理性能，近十几年来，多主元高熵合金引起了材料研究者青睐。

常用高熵合金制备方法有激光熔覆法、真空熔炼法、粉末冶金法凹、机械合金化法等。

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本课题要研究或解决的问题：本课题采用直流多靶磁控溅射镀膜技术，在单晶硅片上依次溅射w/nbmotaw和cu，并通过不同的退火温度处理，对各个退火温度阶段的样品进行表面及结构的分析，比如xrd、sem、tem等等，探究一定厚度的w/nbmotaw阻挡铜和硅之间相互扩散的最高温度。

拟采用的研究手段（途径）：（1）磁控溅射基础知识的学习和仪器的使用，选择合适的溅射功率和气压等工艺参数。

（2）结合现代分析技术，如xrd、sem和tem等，初步探讨表面铜薄膜的晶粒尺寸、整个体系的结构与退火温度的关系，并分析其带来的性能的变化。

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